Prehľad produktov
Nano 3D litografický systém sú pokročilé projekčné -mikro-stereolitografické (PμSL) platformy určené pre mikro- a nano{4}}výrobu aditív.
Využitím litografických{0}}optických systémov a bezmaskovej technológie priameho{1}}zápisu dosahuje séria Ploceus-popredné rozlíšenie až do1 μm, ktorá umožňuje výrobu zložitých mikroštruktúr s vysokým-pomerom{1}}pomerov, zariadení z viacerých{2}}materiálov a keramických komponentov s výnimočnou rozmerovou presnosťou.
Séria obsahuje viacero úrovní presnosti, aby vyhovovala rôznym výskumným a priemyselným požiadavkám:
LSS-20- Štandardná presnosť (20 μm)
LSS-10 /- Vysoká presnosť (10 μm)
LSS-05- Pokročilá mikro presnosť (5 μm)
LSS-02- Ultra presnosť (2 μm)
LSS-01-DL/LSS-01-TL– Systémy nastavenia viacerých šošoviek- (až do 1 μm)
Vďaka modulárnym možnostiam konfigurácie, prepínaniu viacerých{0}}rozlíšení a schopnosti vizuálneho zarovnania podporuje séria Ploceus rýchle prototypovanie aj vysoko presnú{1}}mikrovýrobu.
Výhody
① Ultra{0}}vysoká litografická presnosť
Rozlíšenie od20 μm až 1 μm
Rozmerová tolerancia už od ±3 μm
Výroba štruktúry s vysokým pomerom strán
② Viac{0}}prepínanie rozlíšenia
Rýchle prepínanie medzi 1 μm / 2 μm / 5 μm / 10 μm / 20 μm
Jedna platforma pre rôzne požiadavky na presnosť
③ Multi{0}}kompatibilita materiálov
Živica
Biokompatibilná živica
Hydrogél (napr. GelMA)
Keramická kaša z oxidu hlinitého
Vysokoteplotná inžinierska živica
④ Vizuálne zarovnanie a spracovanie WYSIWYG
Optické monitorovanie-v reálnom čase
Automatické vyrovnávanie a zaostrovanie
Viac{0}}materiálové heterogénne zarovnanie
Presnosť zarovnania prekrytia až 2,5 μm
⑤ Vysoká-rýchlosť tlače
5–50× rýchlejšie ako tradičné nástroje na mikrovýrobu
Vhodné pre výrobu prototypov aj pre výrobu sériového výskumu
⑥ Modulárny a flexibilný systém DPH
Mini vaňa (15 ml) na vývoj materiálu
Veľká vaňa pre sériovú výrobu
Modul vysokoteplotnej tlače{0}
Automatický de{0}}prebublávací systém
Aplikácie
Biomedicínske vedy a vedy o živote
· Mikrofluidné čipy
· Organoid-na{1}}-platformách čipov
· Mikroihlové polia (plné a duté)
· Lešenia tkanivového inžinierstva
· Systémy podávania liekov
· Hlavné formy PDMS
Pokročilé materiály a metamateriály
Keramické mriežkové konštrukcie
Gradientové metamateriály
Trojitý periodický minimálny povrch (TPMS)
Mechanické metamateriály
Porézne keramické lešenia
Mikro{0}}mechanické a funkčné zariadenia
· Mikroprevody
· Mikro konektory
· Optické metapovrchy
· Mikro-pružiny
· Funkčné mikroštruktúry
Parametre
|
Model |
Presnosť litografie |
Minimálna hrúbka vrstvy |
Tolerancia tlače |
Maximálna veľkosť tlače |
Systém šošoviek |
|
LSS-20 |
20 μm |
5 μm |
±50 μm |
38×21×50 mm |
Jedna šošovka |
|
LSS-10 |
10 μm |
5 μm |
±20–25 μm |
50×50×50 mm |
Jedna šošovka |
|
LSS-05 |
5 μm |
3 μm |
±10 μm |
50×50×50 mm |
Jedna šošovka |
|
LSS-02 |
2 μm |
3 μm |
±5 μm |
50×50×50 mm |
Dvojitý objektív |
|
LSS-01-DL |
2 μm |
3 μm |
±5 μm |
50×50×50 mm |
Dvojitá šošovka (zarovnanie) |
|
LSS-01-TL |
1 μm |
3 μm |
±3 μm |
50×50×50 mm |
Trojitá šošovka (zarovnanie) |
FAQ
Otázka: 1. Akú technológiu používa tento systém?
Odpoveď: Systém je založený na projekčnej mikro-stereolitografii (PμSL) a bezmaskovej priamej litografickej technológii-zápisu, ktorá umožňuje vysoko presnú{2}}mikro/nano{3}}výrobu 3D.
Otázka: 2. Aké je najvyššie dostupné rozlíšenie?
Odpoveď: V závislosti od modelu sa presnosť litografie pohybuje od:
20 μm
10 μm
5 μm
2 μm
do 1 μm (PL-3D-PT)
Otázka: 3. Aké materiály sú podporované?
Odpoveď: Systém podporuje širokú škálu materiálov vrátane:
Funkčné živice
Biokompatibilné živice
Vysokoteplotné inžinierske živice
Hydrogél (napr. GelMA)
Keramická kaša z oxidu hlinitého
Vlastná materiálová kompatibilita je k dispozícii na požiadanie.
Otázka: 4. Môže tlačiť keramické štruktúry?
A: Áno. Vybrané modely podporujú tlač keramickej kaše, čo umožňuje výrobu poréznych keramických lešení, mriežkových štruktúr a metamateriálov.
Otázka: 5. Podporuje systém tlač viacerých{1}}materiálov?
A: Áno. Pokročilé modely (PL-3D-PD / PL-3D-PT) podporujú heterogénnu zarovnávaciu tlač viacerých materiálov s presnosťou zarovnania presahov až do 2,5 μm.
Otázka: 6. Aké formáty súborov sú podporované?
Odpoveď: Systém podporuje formát STL pre vstup 3D modelu.
Otázka: 7. Aká je maximálna veľkosť tlače?
Odpoveď: V závislosti od modelu môže podporovaná veľkosť tlače dosiahnuť až:
50 mm × 50 mm × 50 mm
K dispozícii sú vlastné konfigurácie vane.
Otázka: 8. Pre aké odvetvia je tento systém vhodný?
Odpoveď: Typické aplikácie zahŕňajú:
Výroba mikrofluidných čipov
Mikroihličkové polia
Lešenie tkanivového inžinierstva
Metamateriály
Metapovrchy
Mikro-mechanické zariadenia
Je široko používaný v biomedicínskom výskume, pokročilých materiáloch a v oblastiach mikrovýroby.
Otázka: 9. Aké sú požiadavky na inštaláciu?
A: Teplota: 20-40 stupňov
Vlhkosť: RH < 60 %
Štandardné laboratórne prostredie
Na základnú prevádzku nie je potrebná žiadna čistá miestnosť (v závislosti od potrieb aplikácie).
Otázka: 10. Ako sa porovnáva s konvenčnými 3D tlačiarňami SLA alebo DLP?
Odpoveď: Systém Ploceus ponúka:
Optická presnosť litografickej{0}}triedy
Rozlíšenie na úrovni mikrónov- (1–5 μm)
Vyššia rozmerová stálosť
Možnosť zarovnania viacerých{0}}materiálov
Je určený skôr na mikro/nano výrobu než na všeobecné prototypovanie.
Populárne Tagy: nano 3D litografický systém, Čína výrobcovia, dodávatelia nano 3D litografických systémov
