12-palcový spin-coater a vývojka

12-palcový spin-coater a vývojka

SCD 12 je 12-automatické rotačné{5}}nanášacie zariadenie a zariadenie na vývojovú dráhu pre proces polovodičovej litografie. Je navrhnutý na výrobu 300 mm plátkov a využíva modulárnu-architektúru, ktorá podporuje flexibilnú konfiguráciu komory. Dokáže realizovať priame prepojenie s litografickými expozičnými nástrojmi, pokrývajúcimi sériovú výrobu a scenáre výskumu a vývoja pre integrované obvody, pokročilé balenie, energetické zariadenia a ďalšie oblasti.
Zaslať požiadavku
Popis

Prehľad produktov

 

SCD 12 je 12-automatické rotačné{5}}nanášacie zariadenie a zariadenie na vývojovú dráhu pre proces polovodičovej litografie. Je navrhnutý na výrobu 300 mm plátkov a využíva modulárnu-architektúru, ktorá podporuje flexibilnú konfiguráciu komory. Dokáže realizovať priame prepojenie s litografickými expozičnými nástrojmi, pokrývajúcimi sériovú výrobu a scenáre výskumu a vývoja pre integrované obvody, pokročilé balenie, energetické zariadenia a ďalšie oblasti.

Je schopný spracovať ultra{0}}tenké a zdeformované doštičky, podporuje prepínanie duálnych{1}}doštičiek{2}}bez výmeny dielov a je plne kompatibilný s bežnými procesmi polovodičovej litografie.

 

Výhody

 

Vysoká{0}}kapacita a kompaktné rozmery Modulárny proces{1}}dizajn jednotky, vysoká priepustnosť, šetrí cenný priestor v čistej-miestnosti. Procesné komory je možné flexibilne konfigurovať podľa požiadaviek zákazníka.

Schopnosť spracovania silných deformovaných-doštičiek Podporuje stabilný prenos a spracovanie pre ultra-tenké a deformované doštičky s deformáciou pod 5 mm, čím rieši problémy pri výrobe špeciálnych-substrátov.

Kompatibilita dvoch{0}}veľkostí bez výmeny hardvéru Prepínajte medzi rôznymi veľkosťami doštičiek bez mechanickej{1}}výmeny dielov, skráťte čas výmeny a znížte prevádzkové náklady.

Inline-pripravené pre litografické nástroje Voliteľný modul rozhrania podporuje Inline{1}}dokovanie s bežnými litografickými expozičnými strojmi, čím sa realizuje plne automatický sled{2}}litho pracovného postupu.

Bohaté funkčné-možnosti modulu Podporuje-veľmi presné varné platne, optické zarovnanie, vystavenie okrajov plátku WEE a ďalšie voliteľné komponenty, aby vyhovovali rôznorodým-požiadavkám procesu.

 

Parametre

 

Položka

Špecifikácia

Model

SCD 12 12-palcový Spin Coater & Developer

Veľkosť oblátky

12-palcový (300 mm), kompatibilný s dvoma veľkosťami bez výmeny dielov

Materiál substrátu

Si, Glass

Konfigurácie komôr

2C2D / 4C / 4D / 4C4D (prispôsobiteľné)

Podporovaný proces litografie

i{0}}linka, KrF, ArF, PI, SOG, SOC

Použiteľná litografická šírka čiary

Väčšie alebo rovné 90 nm

Maximálna priepustnosť

110 WPH (závisí od receptúry a konfigurácie)

Kompatibilita s deformovanou oblátkou

Podpora deformácie Prenos a spracovanie 5 mm ultra-tenkých / zdeformovaných plátkov

Rozmery (Š × H × V)

4970 × 1973 × 2460 mm

Inline funkcia

Voliteľný modul rozhrania na prepojenie s litografickým strojom

Voliteľné jednotky

Vysoko presná{0}} platnička, optické zarovnanie, modul vystavenia okrajov plátku WEE

Režim ovládania

Miestne ovládanie / diaľkové riadenie automatizácie z výroby

Certifikácia

Kompatibilné so SEMI S2

 

Časté otázky

 

FAQ

Otázka: Aké substráty a veľkosti plátkov podporuje SCD 12?

Odpoveď: Hlavne pre 12-palcové (300 mm) doštičky, podporujúce Si a sklenené substráty. Podporuje prepínanie dvoch veľkostí bez výmeny náhradných dielov a dokáže spracovať zdeformované/ultra tenké doštičky s deformáciou menšou alebo rovnou 5 mm.

Otázka: Aké litografické procesy môže tento stroj spustiť?

Odpoveď: Podporuje procesy i line, KrF, ArF, PI, SOG, SOC, vhodné pre litografickú čiaru so šírkou väčšou alebo rovnou 90 nm.

Otázka: Môže sa SCD 12 pripojiť k litografickému skeneru / stepperu?

A: Áno. Vyberte si voliteľný modul rozhrania, aby ste dosiahli Inline inline dokovanie s bežnými litografickými expozičnými strojmi.

Otázka: Aké konfigurácie komory sú k dispozícii na výber?

Odpoveď: Dostupné konfigurácie: 2C2D / 4C / 4D / 4C4D. Zákazníci môžu pridať voliteľné jednotky vrátane vysoko presnej varnej platne, optického zarovnania, WEE, inline modulu rozhrania na základe procesných požiadaviek.

Otázka: Aká je skutočná priepustnosť?

Odpoveď: Maximálny výkon je 110 W/h. Priepustnosť v reálnom svete sa líši podľa aktuálnej konfigurácie komory a výrobného receptu.

Otázka: Je SCD 12 vhodný na hromadnú výrobu aj laboratórny výskum a vývoj?

A: Áno. Flexibilná modulárna konfigurácia môže spĺňať požiadavky na veľkoobjemovú masovú výrobu a tiež sa prispôsobiť malosériovej výskumnej a vývojovej práci vo výskumných ústavoch.

Populárne Tagy: 12-palcový spin-coater a developer, Čína 12-palcový spin-coater a vývojári, dodávatelia

Zaslať požiadavku