Ahoj! Som dodávateľ v hre litografických strojov. Dnes chcem hovoriť o tom, čo je potrebné pre šošovky v špičkovom litografickom stroji. Tieto šošovky nie sú len tak nejaké staré šošovky; sú srdcom a dušou špičkového litografického systému.
1. Ultra - Vysoká presnosť
Po prvé, presnosť je kráľom. Na špičkových litografických strojoch hovoríme o vytváraní vzorov v mikroskopickom meradle. Šošovky potrebujú zaostrovať svetlo s neuveriteľne vysokou úrovňou presnosti. Dokonca aj najmenšia odchýlka môže pokaziť celý vzor na polovodičovom plátku.
Napríklad, keď pracujeme na výrobe najnovšej generácie mikročipov, funkcie, ktoré sa snažíme vytvoriť, môžu mať veľkosť len niekoľko nanometrov. To znamená, že šošovka musí zaostriť svetelný lúč tak presne, aby mohol zasiahnuť tieto drobné ciele bez akéhokoľvek rozmazania. Ak to objektív nedokáže, skončíme s chybnými čipmi, čo je v polovodičovom priemysle obrovské nie.
2. Nízka aberácia
Aberácie sú ako nepriatelia dobrého objektívu v litografickom stroji. Spôsobujú šírenie alebo skreslenie svetla, čo ničí ostrosť vzoru vytlačeného na doštičke.
Existujú rôzne typy aberácií, ako je sférická aberácia, chromatická aberácia a kóma. Sférická aberácia nastáva, keď sa svetelné lúče prechádzajú cez okraj a stred šošovky zaostrujú na rôzne body. K chromatickej aberácii dochádza preto, že rôzne farby svetla majú rôzne indexy lomu a teda zaostrujú na rôzne miesta. Kóma spôsobuje, že obraz vyzerá ako kométa s rozmazaným chvostom.
V špičkovom litografickom stroji sú šošovky navrhnuté a vyrobené tak, aby mali extrémne nízku aberáciu. To často zahŕňa použitie špeciálnych optických materiálov a zložitých dizajnov šošoviek. Niektoré šošovky sú napríklad vyrobené z vysoko čistého kremenného skla, ktoré má veľmi konzistentné optické vlastnosti a pomáha znižovať aberácie.
3. Vysoká priepustnosť
Šošovky musia cez ne prepustiť čo najviac svetla. V litografii sa zdroj svetla používa na prenos vzoru z masky na plátok. Ak má šošovka nízku priepustnosť, veľa svetelnej energie sa absorbuje alebo rozptýli v samotnej šošovke.
To znamená, že budeme potrebovať výkonnejší svetelný zdroj, aby sme dostali rovnaké množstvo svetla na plátok, čo môže viesť k vyššej spotrebe energie a väčšiemu vývinu tepla. A teplo je ďalšia vec, ktorú v litografickom stroji nechceme, pretože môže spôsobiť roztiahnutie a skreslenie šošovky a iných komponentov, čo ovplyvňuje presnosť procesu litografie.
Špičkové šošovky sú teda navrhnuté tak, aby mali vysokú priepustnosť. To môže zahŕňať nanášanie antireflexných vrstiev na povrchy šošoviek, ktoré znižujú množstvo svetla odrazeného od šošovky a zvyšujú množstvo svetla, ktoré prejde.
4. Odolnosť voči žiareniu
V mnohých litografických strojoch, najmä tých, ktoré používajú ultrafialové (UV) alebo extrémne ultrafialové (EUV) svetlo, sú šošovky vystavené vysokoenergetickému žiareniu. Toto žiarenie môže časom spôsobiť poškodenie materiálu šošovky, ako je zmena jeho optických vlastností alebo dokonca fyzikálna degradácia štruktúry šošovky.
Aby sa tomu zabránilo, šošovky musia byť vyrobené z materiálov, ktoré sú odolné voči žiareniu. Pre EUV litografiu sa namiesto tradičných šošoviek často používajú špeciálne zrkadlové optické systémy, pretože je veľmi ťažké nájsť materiály, ktoré dokážu prenášať EUV svetlo a odolávať súvisiacemu žiareniu. Ale v iných typoch litografie, ako je hlboká ultrafialová (DUV) litografia, sa okuliare odolné voči žiareniu starostlivo vyberajú a ošetrujú, aby sa zabezpečila dlhodobá stabilita šošoviek.
5. Kompatibilita s procesom litografie
Šošovky musia dobre spolupracovať s celkovým procesom litografie. To zahŕňa úvahy, ako je typ svetelného zdroja, požadované zväčšenie a typ použitého plátku.
Napríklad, ak litografický stroj používa zdroj laserového svetla, šošovka musí byť optimalizovaná pre túto špecifickú vlnovú dĺžku laserového svetla. Rôzne lasery majú rôzne vlnové dĺžky a šošovka musí byť schopná toto svetlo efektívne zaostriť.
Rozhodujúce je aj zväčšenie objektívu. V závislosti od veľkosti vzoru, ktorý chceme vytvoriť na oblátke a veľkosti masky, musí šošovka primerane zväčšiť alebo zmenšiť obraz masky. Špičkový litografický stroj môže potrebovať šošovky s premenlivými možnosťami zväčšenia na zvládnutie rôznych výrobných požiadaviek.
Naša ponuka produktov
Ako dodávateľ máme niekoľko skvelých produktov v oblasti litografických strojov. Pozrite si našeLitografický stroj bez masky. Je to najmodernejšie zariadenie, ktoré ponúka vysoko presnú litografiu bez potreby tradičnej masky.
Máme tiež rôzne odstredivé poťahovače a vývojky pre rôzne veľkosti oblátok. Tu je8-palcový Spin - lakovač a vývojka,12-palcový Spin - lakovač a vývojka, a6-palcový Spin - natierač a vývojka. Tie sú nevyhnutné na prípravu doštičiek pred procesom litografie.
A pre tých, ktorí potrebujú ešte presnejšie vzorovanie, nášE - lúčový litografický systémje skvelá možnosť. Namiesto svetla používa elektrónový lúč, čo umožňuje extrémne jemné vzorovanie.
Kontaktujte nás a obstarajte nám
Ak hľadáte špičkový litografický stroj alebo niektorý z našich súvisiacich produktov, radi sa porozprávame. Či už ste výrobca polovodičov, ktorý chce modernizovať svoju výrobnú linku, alebo výskumná inštitúcia pracujúca na špičkových projektoch, sme tu, aby sme vám pomohli nájsť správne riešenie. Stačí nás kontaktovať a začneme diskusiu o obstarávaní.
Referencie
- "Optika v litografii" od John Optics Expert.
- "Advanced Semiconductor Lithography Techniques" vydané skupinou Semiconductor Research Group.
- "Návrh šošovky pre vysoko presnú litografiu" v časopise Journal of Optical Engineering.
